IVD離子輔助蒸發(fā)技術 當前位置:主頁 > 技術說明 > IVD離子輔助蒸發(fā)技術
IVD是離子輔助蒸發(fā)鍍膜技術(Ion Assisted Vapor Deposion)的簡稱,是在傳統(tǒng)的蒸發(fā)鍍膜的基礎上,利用離子鍍的原理,提高蒸發(fā)鍍膜的離化率,進而提高蒸發(fā)鍍膜層的性能。
IVD鍍鋁技術廣泛應用于各種軍用、民用的防腐功能涂層,用于替代電鍍,例如:釹鐵硼表面鍍鋁防腐,航空緊固件鍍鋁防腐等。
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