公司動(dòng)態(tài) 當(dāng)前位置:主頁(yè) > 關(guān)于丹普 > 動(dòng)態(tài)資訊 > 公司動(dòng)態(tài) >
丹普受邀參加霍廷格舉辦的等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議
發(fā)布時(shí)間：2023-02-14
等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議（Power Electronics For Plasma Engineering，簡(jiǎn)稱(chēng)PE2），于2017年5月16-18日在位于波蘭杰隆卡的霍廷格公司（TRUMPF Huettinger）舉行。會(huì)議由霍廷格公司專(zhuān)家主持，會(huì)議每年召開(kāi)一次，本次會(huì)議邀請(qǐng)了國(guó)際上電子電力及表面領(lǐng)域的知名專(zhuān)家、學(xué)者以及企業(yè)界代表，北京丹普表面技術(shù)有限公司也應(yīng)邀派專(zhuān)家參會(huì)，共同對(duì)表面處理及離子工程技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀、發(fā)展趨勢(shì)、如何進(jìn)一步推進(jìn)行業(yè)發(fā)展等話題進(jìn)行了熱烈討論。本次會(huì)議參會(huì)人數(shù)達(dá)到100余人，參會(huì)代表覆蓋多個(gè)國(guó)家和地區(qū)，在國(guó)內(nèi)外電子電力及表面處理工程領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)水平和廣泛的影響力。
在16日的會(huì)議中，霍廷格公司Dr.R.Bugyi先生致歡迎辭，Schaeffler集團(tuán)公司的Dr.Y.Musayev對(duì)汽車(chē)和工業(yè)廠家如何通過(guò)表面技術(shù)實(shí)現(xiàn)增值做簡(jiǎn)短的介紹；Hauzer公司的D.Doerwald和R.Tietema對(duì)PVD技術(shù)的發(fā)展做了介紹；First Solar公司的B.Clark-Phelps和M.Latusek做了ARC管理對(duì)材料濺射的重要性的演講；霍廷格公司P.Lesiuk做了在光學(xué)和功能性涂料的反應(yīng)沉積由反向電壓和脈沖參數(shù)設(shè)置的修改過(guò)程和薄膜性質(zhì)的報(bào)告；以及眾多專(zhuān)家在電氣、光學(xué)、表面及材料處理方面做了精彩的演講。
會(huì)議現(xiàn)場(chǎng)
北京丹普表面技術(shù)有限公司董騏經(jīng)理與國(guó)外專(zhuān)家交換意見(jiàn)
北京丹普表面技術(shù)有限公司董騏經(jīng)理與國(guó)外專(zhuān)家交換意見(jiàn)
聲明：本站部分圖片、文章來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)，版權(quán)歸原作者所有，如有侵權(quán)，請(qǐng)點(diǎn)擊這里聯(lián)系本站刪除。
| 返回列表 | 分享給朋友： |
京公網(wǎng)安備 11010502053715號(hào)